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國林科技 (sz300786) +添加自選
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  • 2025-08-15 16:10
    irm1347477:恭喜公司順利復產(chǎn),請問公司停產(chǎn)期間,是否將晶體乙醛酸庫存處理完畢?做到輕裝上陣?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。具體經(jīng)營情況請您關注公司定期報告。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 16:04
    irm1347477:公司在2024年報中提到公司的半導體設備已經(jīng)在國內(nèi)晶圓芯片終端(fab)廠正式投入使用,請問是否屬實?是國內(nèi)頭部的fab廠嗎?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。公司相關情況請您以公司于指定信息披露媒體刊登的公告為準。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:相比傳統(tǒng)等離子蝕刻,臭氧蝕刻對基材損傷更小,適用于高精度圖形化工藝。減少熱應力,避免第三代半導體材料(如碳化硅)因高溫導致的晶格缺陷。公司到底有沒有蝕刻工藝的臭氧設備?能否用于第三代半導體制造?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。公司現(xiàn)有半導體專用臭氧系統(tǒng)設備可以應用于蝕刻工藝、第三代半導體生產(chǎn)工藝。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:美國mks官網(wǎng)上顯示其最先進的半導體臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧純度為99.9995%,即6N水準。該產(chǎn)品已用于臺積電3nm芯片生產(chǎn)線。請問公司的同類型半導體臭氧發(fā)生器的臭氧純度為多少?是多少N的水準?能否達到同樣3nm芯片生產(chǎn)的要求?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。純度指的是濃度,用mg/L單位來表示,99.9995%屬于描述不符。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:pcn印刷電路板,在焊接、組裝等工藝后,表面可能會殘留助焊劑、油污等。臭氧可以快速有效清洗這些污物。請問公司的臭氧設備能否滿足pcb印刷電路板的清洗?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。國林半導體現(xiàn)有產(chǎn)品具備廣泛的應用適應性,能夠滿足各類場合中臭氧清洗的需求。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:某國內(nèi)半導體臭氧設備廠商宣稱其設備產(chǎn)生的超純臭氧氣體純度達99.9995%,即5N水準。請問公司的臭氧設備能產(chǎn)生的半導體級超純臭氧氣體純度為多少?二氧化碳設備產(chǎn)生的半導體級二氧化碳氣體純度為多少?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。純度指的是濃度,用mg/L單位來表示。99.9995%屬于描述不符。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:54
    irm1347477:目前臭氧水清洗成為3nm以下先進制程的優(yōu)選方案。目前國際東京電子(TEL)實驗顯示,臭氧水對EUV 光刻膠的去除率比硫酸﹣雙氧水混合液(SPM)高20%,且無硫殘留。臺積電在3nm制程中采用臭氧水預處理,使晶圓缺陷密度降低15%。ASML的混合工藝:臭氧水+兆聲波(Megasonic)協(xié)同清洗,減少物理損傷。請問公司是否了解上述行業(yè)發(fā)展?公司能否介紹一下臭氧水在3nm以下制程的優(yōu)勢?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。臭氧水在3nm及以下先進制程中的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在其高氧化性、清潔效率和環(huán)保特性上,能夠滿足半導體制造對精度、缺陷控制和材料兼容性的嚴苛要求。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:54
    irm1347477:公司正在開發(fā)紫外-臭氧聯(lián)用設備,可分解光刻膠顯影后的有機殘留物,清洗效率比傳統(tǒng)工藝提升40%。以及正在研發(fā)EUV光刻膠生產(chǎn)用的高純度臭氧氣體純化系統(tǒng),金屬雜質(zhì)含量<0.1ppt。以上信息是否屬實?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。公司現(xiàn)有半導體專用臭氧系統(tǒng)設備可以滿足工藝應用,具體產(chǎn)品研發(fā)情況請您以公司于指定信息披露媒體刊登的公告為準。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:54
    irm1347477:公司半導體設備產(chǎn)生的半導體級氣體(臭氧、二氧化碳、氨氣)能達到多少N的純度?
    國林科技:尊敬的投資者,您好。半導體設備產(chǎn)生的半導體級氣體(臭氧、二氧化碳、氨氣)無法用純度標定,只能以潔凈度或者濃度指標參數(shù)來描述。感謝您的關注。
  • 2025-08-15 15:54
    irm1347477:目前國內(nèi)商業(yè)航天發(fā)射進入高頻期,經(jīng)查閱資料,發(fā)現(xiàn)火箭試車及發(fā)射時,會產(chǎn)生大量的助推劑廢水需要處理。請問目前,公司的臭氧法處理火箭助推劑,是比較好的選擇嗎?其優(yōu)點在哪?目前公司的火箭客戶還在使用公司的產(chǎn)品技術嗎?
    國林科技:尊敬的投資者,您好?;鸺囓嚰鞍l(fā)射過程中會產(chǎn)生大量廢水,這類廢水具有劇毒、成分復雜、致癌性強等特點,利用臭氧的強氧化性,可將水體中的大分子有機物氧化為小分子有機物,增強有機物的可生物降解性,提高處理工藝凈化效率。臭氧氧化技術因其獨特的優(yōu)勢,已成為處理火箭推進劑廢水的重要方法之一。感謝您的關注。
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